微弧氧化电源监控-微弧氧化电源-日照微弧

微弧氧化电解液组成及工艺条件

　     微弧氧化电解液组成：k2sio3 5～10g/l，微弧氧化电源监控，na2o2 4～6g/l，naf 0.5～1g/l，ch3coona 2～3g/l，na3vo3 1～3g/l；溶液ph为11～13；温度为20～50℃；阴极材料为不锈钢板；电解方式为先将电压迅速上升至300v，并保持5～10s，然后将阳极氧化电压上升至450v，电解5～10min。

       两步电解法，---步：将铝基工件在200g/l的钾水玻璃水溶液中以1a/dm2的阳极电流氧化5min；第二步：将经---步微弧氧化后的铝基工件水洗后在70g/l的na3p2o7水溶液中以1a/dm2的阳极电流氧化15min。阴极材料为：不锈钢板；溶液温度为20～度为20～50℃微弧氧化电源、微弧氧化技术、微弧氧化生产线

      微弧氧化处理后的铝基表面陶瓷膜层具有硬度高，微弧氧化电源，耐蚀性强，绝缘性好，膜层与基底金属结合力强，并具有---的耐磨和耐热冲击等性能。微弧氧化技术工艺处理能力强，可通过改变工艺参数获取具有不同特性的氧化膜层以满足不同目的的需要；也可通过改变或调节电解液的成分使膜层具有某种特性或呈现不同颜色；还可采用不同的电解液对同一工件进行多次微弧氧化处理，以获取具有多层不同性质的陶瓷氧化膜层。微弧氧化技术、微弧氧化电源、微弧氧化生产线、微弧氧化