镁合金微弧氧化-镁合金微弧氧化表面要求-日照微弧技术

微弧氧化技术工艺优点

微弧氧化处理既与电镀锌等消耗性阴极处理不同，可用非消耗性的不锈钢作阴极，避免了重金属离子从阴极溶入并随废水流出污染环境；又与电镀硬铬和重（或硬）阳极氧化等依靠消耗溶液中溶质元素在---样品表面形成保护膜层的工艺不同，微弧氧化处理主要在铝、镁等轻合金表面生成金属自身氧化物的陶瓷层，理论上属不消耗溶质元素的处理工艺。因此该工艺可以被视为既不消耗阴极又基本不消耗电解液溶质元素的清洁处理。

微弧氧化膜的优势

微弧氧化膜与普通阳极氧化膜相比， 这种膜的空隙率---降低，从而使耐蚀性和耐磨性有了较大提高。目前，微弧氧化技术主要应用于al、mg、ti 等有色金属或其合金的表面处理中。镁合金微弧氧化技术所形成的氧化膜主要由mgo 和mgal2 o4 尖晶石相组成，总膜厚可达100 lm以上， 具有明显的三层结构: 外部的疏松层、中间的致密层和内部的结合层。

微弧氧化电源、微弧氧化生产线、微弧氧化技术、微弧氧化