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微弧氧化技术的发展
微弧氧化技术是北京师范大学核科学与技术学院(低能核物理研究所)(北京市辐射中心)1992年起开发的科研课题,先后得到国---委、九五863高技术研究发展计划、---基jin的大力支持。1997-1998年完成“863”计划项目“等离子体微弧氧化表面改性技术”,1997年12月“铝合金微弧氧化技术”通过国---委和863组的联合鉴定。2002年微弧氧化设备获得重点新产品---,微弧氧化技术,2004年微弧氧化双极性大功率脉冲电源获得发明。






微弧氧化技术就是通过电源和溶液配方,让铝、镁、钛合金上生长出一层陶瓷膜层,从而拥有陶瓷的很多性能,等离子微弧氧化技术,如耐腐蚀、耐磨损、耐高压、。在手机中框,微弧氧化技术厂家,笔记本壳体,飞机的某些零部件,镁合金器材等领域具有广泛的应用价值。
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微弧氧化时间对表莫粗糙度的影响
微弧氧化陶瓷膜的表面粗糙度随着氧化时间的延长近似呈线性增长。这是由于氧化膜的表面粗糙度与膜层的厚度有直接关系,手机壳微弧氧化技术,而膜层的增厚过程是在---的能量条件下陶瓷膜的重复击穿过程。在氧化初期,作用在膜层上的能量较低,产生的熔融物颗粒较少,膜层的表面粗糙度较低;随着时间的延长,膜层表面的能量密度逐渐增大,熔融的氧化产物增多,并通过微孔喷射到表面。在电解液液淬作用下,氧化物冷却凝固,并发生多次击穿。在这种熔融、凝固、再熔融、再凝固的过程中,产生的氧化物颗粒黏附在陶瓷层表面的数量增多,从而增大了膜层表面的粗糙度。另外,在成膜过程中同时存在氧化膜的溶解过程,因此,若时间足够长,膜层在溶解过程中其表面粗糙度也会出现小幅度的下降。

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