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微弧氧化膜层生长时,首先在基体表面发生化学反应,轻金属微弧氧化优势,生成一层阳极氧化膜。当增大反应电压时,膜层厚度会进一步增加,厚度会随之增加。但是当反应电压增加到一定程度时,膜层会由于不能承受该工作电压发生放电再击穿,轻金属微弧氧化,产生等离子放电。反应的高温将使膜层发生熔融,基体元素由于处在富氧环境中,将形成氧化物。同时由于是在电解液中,熔融物将瞬间冷凝,在基体表面生成一层陶瓷。陶瓷膜的生成,将导致工作电压进一步升高,膜层再次被击穿,膜层厚度进一步增加。周而复始,膜层得以生长。
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微弧氧化(microarc oxidation, mao)又称等离子体电解氧化(plasma electrolytic oxidation, peo)、微等离子体氧化(microplasma oxidation, mpo)等,轻金属微弧氧化表面处理,是通过电解液与相应电参数的组合,在铝、镁、钛等金属及其合金表面依靠弧光放电产生的瞬时高温高压作用,原位生长出以基体金属氧化物为主的陶瓷膜层。

微弧氧化的步骤
一、阳极氧化阶段
将样品置于一定的电解液中,通电后,样品外表和阴极外表呈现---细小的平均的白色气泡,而且随电压升高,气泡逐步变大变密,生成速率也不时加快。在到达击穿电压之前,这种现象不断存在,轻金属微弧氧化设备,这一阶段就是阳极氧化阶段。
二、火花放电阶段
当施加到样品的电压到达击穿电压时,样品外表开端呈现---细小、亮度较低的火花点。这些火花点密度不高,无爆鸣声。在该阶段,样品外表开端构成陶瓷层,但陶瓷层的生长速率很小,硬度和致密度较低,所以应尽量减少这一阶段的时间。

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