微弧氧化技术-日照微弧养护技术-微弧氧化技术要求

微弧氧化电解液组成及工艺条件

　     微弧氧化电解液组成：k2sio3 5～10g/l，na2o2 4～6g/l，微弧氧化技术要求，naf 0.5～1g/l，ch3coona 2～3g/l，na3vo3 1～3g/l；溶液ph为11～13；温度为20～50℃；阴极材料为不锈钢板；电解方式为先将电压迅速上升至300v，并保持5～10s，然后将阳极氧化电压上升至450v，电解5～10min。

       两步电解法，---步：将铝基工件在200g/l的钾水玻璃水溶液中以1a/dm2的阳极电流氧化5min；第二步：将经---步微弧氧化后的铝基工件水洗后在70g/l的na3p2o7水溶液中以1a/dm2的阳极电流氧化15min。阴极材料为：不锈钢板；溶液温度为20～度为20～50℃微弧氧化电源、微弧氧化技术、微弧氧化生产线

为什么要进行微弧氧化预处理

       微弧氧化预处理预处理的原因是由于铝、铁等合金长时间放置在空气中，微弧氧化技术表面处理，表面易发生氧化，生成一层几个微米的钝化膜，同时，其表面又极易吸附周围环境中的杂质，形成表面吸附层。为---微弧氧化后制得陶瓷膜的综合力学性能，在微弧氧化处理前要对试样表面进行预处理。微弧氧化、微弧氧化技术、微弧氧化电源、微弧氧化生产线、微弧氧化厂家、微弧氧化工艺